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镀铜扁钢欧标工字钢N年大品牌

发布时间:2024-10-06 00:31:26 浏览次数:27    公司名称:[淮北]永发钢铁贸易有限公司

以下是:镀铜扁钢欧标工字钢N年大品牌的产品参数
产品参数
产品价格410
发货期限电议
供货总量电议
运费说明电议
材质Q235-355B,16MN,45MN 合金扁钢
产地齐全
规格 10-200
类型齐全
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在PCB制造业中,电镀铜已经应用许多年了,印制板电镀铜溶液属酸性溶液,具有高酸低铜特点,有极好的分散能力和深镀能力 镀后的铜层有光泽性。

在印制板过程中,铜镀层有两种作用:一种是全板电镀铜,保护刚刚沉积的薄薄化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加厚到一定的厚度,通常为5gm~8gm,也叫一次铜。另一种是图形电镀铜,将孔铜和线路铜加厚到一定厚度或作为镍的底层,通常厚度为20gm~25gm,也叫二次铜。




现场电镀操作中,电压的同时电流也将随之加大。从实用电流密度的观点而言,可分为三个阶段(参考下图) :
压起步阶段中其电流增加得十分缓慢,故不利于量产。
1.一直到达某个电压阶段时电流才会快速增加,此段陡翘曲线的领域,正是一般电镀量产的操作范围。
2.曲线到了高原后,即使再逐渐增加电压,但电流的上升却是极不明显。此时已到达正常电镀其电流密度的极限(1lim)。
此时若再继续增加电压而迫使电流超出其极限时,则镀层结晶会变粗甚至成瘤或粉化,并产生大量的氢气。此一阶段所形成之劣质镀层当然是无法受用的,但铜箔毛面棱线上的铜瘤,却是刻意超出极限之制作,而强化抓地力的意外用途。
以下即为阴极待镀件在其极电流强(Ilim)与电流密度(Jlim)的公式与说明,后者尤其常见于各种有关电镀的文章中。
● 被镀件之极限电流强度为(单位是安培A):
Ilim=
● 被镀件之极限电密度为(单位是ASF;A/fi2或ASD;A*/dm2)
J lim=
● 超过极限电流之电镀层,由于沉积与堆积太快的作用下,将使得结晶粗糙不堪,形成瘤状或粉状外表无光泽之劣质镀层,常呈现灰白状或暗色之外观,故称之为烧焦(Burning)。ED铜皮其粗面上之铜瘤却为刻意超过极限电流而产生者。
● 各种揽拌(吹气、过续循环、阴极摆动等)之目的均在逼薄阴极膜(使δ变小)减少浓差极化,并增加其可用之电流极限。且主槽液浓度(Cb)与扩散系数(D)的增大也有助于极限电流的,而增大电镀之反应范围。
阴极膜与电双层



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镀铜是在电镀工业中使用广泛的一种预镀层,包括锡焊件、铅锡合金、锌压铸件在镀镍、金、银之前都要镀铜,用于改善镀层结合力。
镀铜(copper plating)铜镀层是重要的防护装饰性镀层铜/镍/铬体系的组成部分,柔韧而孔隙率低的铜镀层,对于提高镀层间的结合力和耐蚀性起重要作用。铜镀层还用于局部的防渗碳、印制板孔金属化,并作为印刷辊的表面层。经化学处理后的彩色铜层,涂上有机膜,还可用于装饰。目前使用多的镀铜溶液是 镀液、硫酸盐镀液和焦磷酸盐镀液。
通常添加剂会出现两种情形:
◆ 增加反应过程上极化(Polarized或超电压)者,将会出现踩车的现象而减缓电镀的速率。
◆ 减少极化(Depolarized,一般译为去极化)者,则具有加大油门的效果而加速电镀之进行。
极限电流密度(Limited Current Density)



阴极表面溶液浓度渐稀的异常液膜称为阴极膜(Cathode Pilm)或扩散层(Diffusion Layer),系指原始铜浓度Cu++重量比下降l%起(99%)到阴极的0%为止的薄液层而言。原本水分子与铜离子所组成的阴极膜,其各处膜厚并不均匀,加入载运剂后此薄膜即将变为厚度增加且均匀性更好的液膜,使得镀铜层厚度也渐趋均匀。本剂可采CVS或HPLC进行分析。
电双层(Double Layer)是指电镀槽液中在接近阴极表面处,因槽液中的带电体受到阴极表面强力负电的感应,而出现一层带正电的观离子层,其与带负电之极板表面所形成的薄夹层,特称为”电双层”。此层厚度约为10A。是金属阳离子在阴极上沉积镀出金属原子的后一道关卡。此时带电之金属离子团,会将游动中附挂各种”配位体”(Ligand,如水分子及CN-与NH3。或有机物等)丢掉,然后吸取极面的电子而成为原子再按能量原子排列后,即可得到所需之金属镀层。




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